催化涂层物理气相沉积高通量制备系统
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收费标准
机时2000/天 -
设备型号
CRT-VMC300 -
当前状态
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管理员
陈学迪 15827230468 -
放置地点
天府永兴实验室天府海创园12号楼B1F
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
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名称
催化涂层物理气相沉积高通量制备系统
资产编号
S2023392
型号
CRT-VMC300
规格
产地
中国
厂家
武汉科瑞达真空科技有限公司
所属品牌
武汉科瑞达
出产日期
购买日期
所属单位
零碳能源系统研究中心
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
陈学迪
联系电话
15827230468
联系邮箱
707813375@qq.com
放置地点
天府永兴实验室天府海创园12号楼B1F
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
成膜均匀性：≤5%，溅射均匀区≥300mm
主要功能及特色
利用物理手段将靶材溅射成原子或离子，在各种平面基体上生长所需的功能薄膜，薄膜包含金属、半导体等多种类型材料。具备以下功能：1、薄膜成分可控制，同时通过温度、角度、距离、功率等多种途径控制沉积速率和薄膜厚度。2、通过溅射一系列不同成分的靶材可得到成分梯度分布的薄膜，实现催化涂层的高通量制备和筛选。3、通过调整溅射工艺可控制成膜质量。4、无化学反应参与制备，仅包括分子或原子的物质转移。5、镀膜过程中，无有毒有害、易燃易爆气体参与制备。
设备使用相关说明
2000元/天，收费标准仅为仪器使用费，如需提供技术服务，相关费用另算，自备基板、靶材、气源等耗材。
预约资源
检测项目
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